原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000

簡(jiǎn)要描述：原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000以MEMS自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片為檢測(cè)核心，摒棄在尾氣氣路中檢測(cè)氣體分子的方法，實(shí)現(xiàn)原位實(shí)時(shí)的程序升溫分析功能。

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更新時(shí)間：2025-01-03
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品牌	其他品牌	應(yīng)用領(lǐng)域	化工,生物產(chǎn)業(yè),能源,電子/電池,制藥/生物制藥

原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000以MEMS自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片為檢測(cè)核心，摒棄在尾氣氣路中檢測(cè)氣體分子的方法，實(shí)現(xiàn)原位實(shí)時(shí)的程序升溫分析功能。

該儀器的工作原理和方法為世界Innovation for the first time，與傳統(tǒng)化學(xué)吸附分析儀相比，除了體積更小巧外，本儀器具有樣品消耗量少、質(zhì)量分辨率高、控溫范圍廣、分析速度快等優(yōu)點(diǎn)，可廣泛應(yīng)用于TPD、TPR、TPO等程序升溫分析測(cè)試。

產(chǎn)品特點(diǎn)

原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000

應(yīng)用領(lǐng)域

催化劑酸堿性

氧化/還原性

催化反應(yīng)

金屬分散度

競(jìng)爭(zhēng)性吸附

單點(diǎn)BET比表面積

吸/脫附動(dòng)力學(xué)

與光譜儀器聯(lián)用實(shí)現(xiàn)工況下原位實(shí)時(shí)表征

應(yīng)用實(shí)例

原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000

原位程序升溫化學(xué)吸附分析儀LoC-TPA 4000

指標(biāo)名稱	參數(shù)
質(zhì)量變化測(cè)量與控溫	Phoenix系列自控溫諧振式微懸臂梁傳感芯片
樣品量	1 pg ~ 30 ng
質(zhì)量變化分辨率	≤1 pg
溫度控制范圍	-196℃ ~ 1000℃
溫度分辨率	0.1℃
溫度波動(dòng)	±0.3℃
測(cè)量功能	TPD、TPR、TPO、TPRx、金屬分散度、單點(diǎn)BET
升溫速率	0.02 ~ 8000℃/s
降溫速率	0.02 ~ 4000℃/s
測(cè)量氣體	全防腐設(shè)計(jì)，可通腐蝕性氣體
同時(shí)測(cè)試數(shù)	雙通道
聯(lián)用	可與光學(xué)顯微鏡、顯微拉曼光譜儀、顯微紅外光譜儀等聯(lián)用
額定功率	50W
主機(jī)尺寸（寬x深x高, cm）	45 x 34 x 29

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